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无掩膜激光直写系统

最大加工区域:直径200mm

宽域曝光模式,包含405nm375nm两个曝光波段

激光最高分辨率:0.6 µm

自动对焦精度: 100 nm

可识别DXF, CIF, GDSII, Gerber格式文件

功能用途:
Microwriter ML II无掩膜激光直写系统是专门为科研实验室设计开发的多功能激光直写光刻系统,不仅具有无掩模板直写系统的灵活性,还拥有高书写速度、高分辨率和低成本的特点。Microwriter ML II采用集成化设计、全自动控制,可靠性高,操作简便,是微电子、半导体研究中代替传统光刻工艺的理想工具,可用于电子/半导体器件、微/纳电机系统 、自旋电子学、传感器、微流控 、材料科学、生物实验室芯片、光子学等